印制电路板化学镀锡装置
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摘要

本实用新型涉及印制电路板生产技术,公开了一种印制电路板化学镀锡装置,包括镀锡槽、位于所述镀锡槽一侧的药水罐和控制箱,所述镀锡槽上设有至少一个出液口和至少一个进液口,所述出液口和所述进液口之间设有镀锡液循环机构以使得所述镀锡槽内的镀锡液能够从所述出液口经该镀锡液循环机构流动至所述进液口,每个所述进液口处分别设有朝向所述镀锡槽内腔的喷射结构,所述镀锡槽的底部设有浓度计探头,所述药水罐通过加药管路与所述镀锡液循环机构连通,所述加药管路上设有电磁阀,所述浓度计探头、所述电磁阀和所述镀锡液循环机构分别与所述控制箱电连接。该镀锡装置能够提高镀锡液的均匀性,加快电路板镀锡的速度,提升镀锡的质量。

基本信息
专利标题 :
印制电路板化学镀锡装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020901759.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-25
授权号 :
CN212894972U
授权日 :
2021-04-06
发明人 :
许国军刘高飞陈其国许香林卢意鹏吴运会
申请人 :
南雄市溢诚化工有限公司
申请人地址 :
广东省韶关市南雄市珠玑工业园
代理机构 :
北京润平知识产权代理有限公司
代理人 :
王崇
优先权 :
CN202020901759.8
主分类号 :
C23C18/52
IPC分类号 :
C23C18/52  H05K3/18  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18/00
通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆;接触镀
C23C18/16
还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18/52
使用还原剂镀不包含在C23C18/32至C23C18/50各组任何单独一个大组中的金属材料
法律状态
2021-04-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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