氧化硼脱水装置
授权
摘要
本实用新型涉及半导体制备技术领域，具体涉及一种氧化硼脱水装置，包括：坩埚，用于盛放待脱水的氧化硼；锅托，坩埚安装于锅托内；加热器，包围所述锅托的侧面和底面设置，第一保温件，环绕设置于加热器的侧面。该装置安全性高、运行稳定、使用方便、成本低、效率高、提高脱水效果明显。
基本信息
专利标题 ：
氧化硼脱水装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020926823.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-27
授权号 ：
CN212870454U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
邢爱君马英俊林泉许兴李万朋张赓张洁刘向前焦雪梅
申请人 ：
北京国晶辉红外光学科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区北三环中路43号二区
代理机构 ：
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 ：
佟林松
优先权 ：
CN202020926823.8
主分类号 ：
F26B5/04
IPC分类号 ：
F26B5/04 F26B23/04 F26B25/06
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F26
干燥
F26B
从固体材料或制品中消除液体的干燥
F26B
从固体材料或制品中消除液体的干燥
F26B5/00
不需要使用加热方法干燥固体材料或制品
F26B5/04
借助在低压下湿气的蒸发或升华，例如在真空中
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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