散热装置及光源系统
授权
摘要
本实用新型实施例提供一种散热装置，包括导热基板、上层散热机构和下层散热机构，导热基板包括相对的第一基板面和第二基板面。上层散热机构包括多组间隔设置的上层散热鳍片组，上层散热鳍片组安装于第一基板面。下层散热机构包括下层散热鳍片组和下层挡风结构，下层散热鳍片组安装于第二基板面，且开设中部进风口，下层散热鳍片组包括多个间隔排列的下层散热鳍片，中部进风口贯穿每个下层散热鳍片，下层挡风结构设置于下层散热鳍片组远离第二基板面的一端。本实用新型提供的散热装置，通过设置上层散热机构和下层散热机构，并且下层散热机构设有中部进风口，提升了散热装置的散热性能。本实用新型实施例还提供一种光源系统。
基本信息
专利标题 ：
散热装置及光源系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020937274.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-28
授权号 ：
CN212252545U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
朱习剑陈辉张权
申请人 ：
深圳市绎立锐光科技开发有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽街道茶光路南侧深圳集成电路设计应用产业园411-1室
代理机构 ：
深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘云青
优先权 ：
CN202020937274.4
主分类号 ：
F21V29/76
IPC分类号 ：
F21V29/76 F21V29/83 F21V29/67
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法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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