薄膜处理系统
授权
摘要
本实用新型提供一种薄膜处理系统。所述薄膜处理系统包括：第一主动辊，进入第一主动辊的薄膜带上包括沿薄膜带的长度方向上重复排布的第一图案，其中第一图案包括第一对位标识；上胶装置，其被配置的在薄膜带上形成胶层；第二主动辊，第二主动辊为辊面上设置有压印结构，所述第二主动辊的辊面压印在所述薄膜带的胶层上以在所述薄膜带的胶层上形成重复排布的第二图案，其中第二图案包括第二对位标识；对位检测装置，其检测薄膜带上的第一图案的第一对位标识和第二图案的第二对位标识的对位偏差；控制器，其被配置的基于得到的对位偏差调控第一主动辊和第二主动辊的转速，进而使得所述对位偏差收敛于预定偏差阈值范围。
基本信息
专利标题 ：
薄膜处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020973700.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-01
授权号 ：
CN213368228U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
魏国军卢国周杨周小红范广飞魏玉宽毛立华陈林森
申请人 ：
苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
苏州简理知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱亦倩
优先权 ：
CN202020973700.X
主分类号 ：
H05K3/00
IPC分类号 ：
H05K3/00 H05K3/46 G03F7/00 G03F9/00
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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