一种用于基板处理的装置，包括适于容纳基板的工作台；与所述基板相对并具有保持空间的气体护罩，所述气体护罩包括：顶层板；底层板，与所述基板相对并具有多个环绕所述保持空间的泵孔；以及中层板，位于所述顶层板和所述底层板之间并具有连通到所述保持空间的第一气体通道和连通到所述多个泵孔的第二气体通道；能量源，与所述顶层板相对使得从其中发出的光通过所述保持空间照射到基板的一部分；反应气提供装置，连接到所述第一气体通道；以及压力调节装置，连接到所述第二气体通道。