薄膜检查装置以及薄膜检查方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明提供一种对于任何形状的检查对象都能够非破坏地判定形成在其表面上的薄膜的状态的薄膜检查装置以及薄膜检查方法。从照射部(2)照射的测定光通过积分球(22)而入射到检查对象。并且，测定光在检查对象的基底部(52)或者薄膜(54)反射。进而，该反射光入射到积分球(22)，并在积分球(22)内被均匀化。然后，被均匀化了的反射光经由光纤(10)被传到分光部(12)。分光部(12)按照波长的顺序对反射光进行分光，并将与强度光谱对应的电信号传给运算处理部(14)。运算处理部(14)基于从分光部(12)接受的电信号来判定形成在检查对象的表面上的薄膜(54)的状态。
基本信息
专利标题 ：
薄膜检查装置以及薄膜检查方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1815138A
申请号 ：
CN200610006957.2
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2006-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
土道和美高仓毅
申请人 ：
欧姆龙株式会社
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 ：
高龙鑫
优先权 ：
CN200610006957.2
主分类号 ：
G01B11/06
IPC分类号 ：
G01B11/06 G01N21/01 G01B9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B11/06
用于计量厚度
法律状态
2008-11-26 ：
发明专利申请公布后的驳回
2006-10-04 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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