薄膜缺陷检查方法
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种薄膜缺陷检查方法,其包括:在待测薄膜表面形成一朗缪尔薄膜;利用一光源照射该朗缪尔薄膜,触发薄膜干涉;观察发生薄膜干涉现象的朗缪尔薄膜;依据薄膜干涉原理分析所产生的薄膜干涉图样,在曲线状干涉条纹对应的待测薄膜处存在缺陷,在无干涉条纹出现的对应待测薄膜处不存在缺陷。该检查方法可以放大薄膜的缺陷,从而达到更有效检查的目的。
基本信息
专利标题 :
薄膜缺陷检查方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1979136A
申请号 :
CN200510102281.2
公开(公告)日 :
2007-06-13
申请日 :
2005-12-08
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黄荣龙彭家鹏
申请人 :
群康科技(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司
申请人地址 :
518109广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园E区4栋1层
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200510102281.2
主分类号 :
G01N21/95
IPC分类号 :
G01N21/95 B05D1/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2018-01-26 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 21/95
申请日 : 20051208
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20161208
申请日 : 20051208
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20161208
2009-07-22 :
授权
2007-08-08 :
实质审查的生效
2007-06-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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