光电演化缺陷检查
实质审查的生效
摘要
一种带电粒子束系统可以包括初级源(100)、次级源(200)和控制器。初级源可以被配置为将带电粒子束(241)沿光轴发射到样本(201)的区域上。次级源可以被配置为辐照(242)样本的区域。控制器可以被配置为控制带电粒子束系统改变次级源的输出的参数。一种成像方法可以包括：将带电粒子束(241)发射到样本(201)的区域上，用次级源(200)辐照(242)样本的区域，以及改变次级源的输出的参数。
基本信息
专利标题 ：
光电演化缺陷检查
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114364990A
申请号 ：
CN202080061112.1
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2020-08-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蒋军任志榆叶宁张剑
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080061112.1
主分类号 ：
G01Q30/02
IPC分类号 ：
G01Q30/02 G01Q30/20 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01Q
扫描探针技术或设备；扫描探针技术的应用，例如，扫描探针显微术
G01Q30/00
用于辅助或改进扫描探针技术或设备的辅助手段，例如显示或数据处理装置
G01Q30/02
非SPM的分析装置，例如，SEM，分光计或光学显微镜
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01Q 30/02
申请日 : 20200826
申请日 : 20200826
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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