一种手动调节式覆膜工作台

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种手动调节式覆膜工作台，包括底座支撑箱、调节机构和覆膜台,所述底座支撑箱的内部设置有调节机构，所述调节机构包括螺杆，所述螺杆的表面上设置有螺纹块，所述螺纹块的顶部均转动连接有活动支撑杆，所述活动支撑杆的顶端通过固定块与活动支撑板的底面固定连接，活动支撑板的顶部固定连接有固定柱，固定柱的顶部固定连接有覆膜台，覆膜台包括工作台面，工作台面的两侧通过合页与折叠板转动连接，折叠板靠近合页一端的底部固定连接有限位块。该手动调节式覆膜工作台，通过设置调节机构方便对覆膜台的高度进行调节，且操作简单方便，通过设置折叠板和合页方便对工作台面面积大小进行调整，方便使用。

基本信息

专利标题：

一种手动调节式覆膜工作台

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020978627.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-02

授权号：

CN212182275U

授权日：

2020-12-18

发明人：

张伟张翔瑀

申请人：

无锡市空穴电子科技有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市新吴区景贤路52号1106室

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202020978627.5

主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/67 B29C63/02

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

H01L21/67

专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置

法律状态

2022-05-17 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20200602
授权公告日 : 20201218
终止日期 : 20210602

2020-12-18 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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