一种导流洞与灌浆洞的平面交叉结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种导流洞与灌浆洞的平面交叉结构，包括上层灌浆洞、下层灌浆洞、导流洞和交通洞，所述下层灌浆洞中设置有位于所述导流洞下方的下穿段，所述交通洞穿过所述导流洞且所述交通洞的两端分别与所述下穿段的两端连通，所述交通洞位于所述导流洞中的部分为交通廊道；所述上层灌浆洞位于所述导流洞的上方，所述下层灌浆洞的高程与所述导流洞的高程相同。本实用新型导流洞与灌浆洞的平面交叉结构提高了导流洞与灌浆洞的平面交叉时的施工进度，减少导流洞封堵的工期。
基本信息
专利标题 ：
一种导流洞与灌浆洞的平面交叉结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020979118.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-02
授权号 ：
CN212248057U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
张金良刘继祥刘庆亮杨顺群王惠芹付健
申请人 ：
黄河勘测规划设计研究院有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市金水路109号
代理机构 ：
北京高沃律师事务所
代理人 ：
韩雪梅
优先权 ：
CN202020979118.4
主分类号 ：
E02B1/00
IPC分类号 ：
E02B1/00 E02B7/00 E02B3/02 E02D19/04 E02D15/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02B
水利工程
E02B1/00
一般水利工程的设备、装置或方法
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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