一种热成像设备及其补光隔热结构
授权
摘要
本实用新型公开一种补光隔热结构，包括由机身围绕而成的安装腔、安装于所述安装腔内的热成像模组和可见光成像模组，以及连接于所述机身外壁、用于根据外界光照环境对所述可见光成像模组进行补光的补光模组。如此，在补光模组开启时，即对可见光成像模组进行补光，同时补光模组运行产生的热量直接沿机身外壁发散在空气中，利用机身作为屏障防止热量传递至热成像模组周围，保证热成像模组的运行不受补光模组的热量影响。因此，本实用新型所提供的补光隔热结构，能够降低补光模组产生的热量对热成像模组造成的影响，有利于保证热成像模组长期正常运行，同时兼顾可见光成像模组的光照需求。本实用新型还公开一种热成像设备，其有益效果如上所述。
基本信息
专利标题 ：
一种热成像设备及其补光隔热结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020986130.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-02
授权号 ：
CN212255975U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
朱志鹏刘海清刘耀强
申请人 ：
浙江宇视科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区西兴街道江陵路88号10幢南座1-11层、2幢A区1-3楼、2幢B区2楼
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
王晓坤
优先权 ：
CN202020986130.8
主分类号 ：
G03B15/02
IPC分类号 ：
G03B15/02 G03B15/03 H04N5/33
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B15/00
摄影的特殊操作；所用的设备
G03B15/02
场面照明
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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