反射幕布及超短焦正投影装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种反射幕布及超短焦正投影装置，涉及投影技术领域，本实用新型提供的反射幕布，包括：雾化层和基材，雾化层涂覆于基材的表面；雾化层具有雾度，且雾化层包括微透镜。本实用新型提供的反射幕布，可以将入射光扩散，并将反射光聚集以提高亮度和对比度，雾化层具有防眩光作用，且可以增强反射幕布表面的耐刮性能。
基本信息
专利标题 ：
反射幕布及超短焦正投影装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021012908.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-04
授权号 ：
CN211956111U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
葛明星
申请人 ：
无锡视美乐科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市宜兴经济技术开发区杏里路10号宜兴光电产业园3幢101室
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王雪莎
优先权 ：
CN202021012908.1
主分类号 ：
G03B21/60
IPC分类号 ：
G03B21/60 G03B21/602
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B21/00
放映机或放映式看片机；有关附件
G03B21/54
附件
G03B21/56
放映屏幕
G03B21/60
以表面特性为特征的
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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