一种热传导均匀的消化炉结构
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摘要

本实用新型涉及化工设备技术领域,具体涉及一种热传导均匀的消化炉结构,包括由外壳包覆的炉芯,炉芯内设有炉芯内腔,炉芯内腔为向上开口的内腔结构,炉芯内腔和外壳之间设有保温层,炉芯内腔中设有至少两根相互平行设置的红外线真空石英加热管;炉芯内腔包括上部腔体和下部腔体,上部腔体向下连通下部腔体,消化管伸入上部腔体内,红外线真空石英加热管设置于下部腔体内,下部腔体的对向的两侧沿着水平方向凸出,任一红外线真空石英加热管的两端不加热的管体位于下部腔体的凸出部分内,任一红外线真空石英加热管的两端的接线端均埋设于保温层内。本实用新型相比较传统技术提升了消化效率,提高了设备使用的安全性。

基本信息
专利标题 :
一种热传导均匀的消化炉结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021019944.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-06
授权号 :
CN212253653U
授权日 :
2020-12-29
发明人 :
赵文建
申请人 :
上海赫冠仪器有限公司
申请人地址 :
上海市松江区泗泾镇文化路298号
代理机构 :
上海梵恒知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王裕
优先权 :
CN202021019944.0
主分类号 :
F27B17/02
IPC分类号 :
F27B17/02  F27D1/00  F27D11/02  F27D21/00  G01J5/00  G01J5/02  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B17/00
不包含在F27B 1/00至F27B 15/00中任一组的炉
F27B17/02
专门供实验室用的
法律状态
2020-12-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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