定位测量装置、定位调节装置以及激光系统

授权

摘要

本申请实施例提供一种定位测量装置、定位调节装置以及激光系统。所述定位测量装置包括：第1部件，其具有供入射的激光通过的第1开口，并使所述入射的激光的光束直径减小并且输出所述激光；第1光学元件，其对所述激光的至少一部分进行反射；第2部件，其被配置在所述第1部件与所述第1光学元件之间，具有供所述激光通过的第2开口；第2光学元件，其将所述第1光学元件反射的所述激光朝向所述第1光学元件进行反射；以及测量部，其对在所述第2部件上生成的光的位置进行测量。由此，能够容易地提高定位的测量精度，而不必扩大激光系统内的空间或者不必使用高灵敏度的光传感器。

基本信息

专利标题：

定位测量装置、定位调节装置以及激光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021080449.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-12

授权号：

CN212341675U

授权日：

2021-01-12

发明人：

荒川正树宫本浩孝

申请人：

极光先进雷射株式会社

申请人地址：

日本栃木县

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

田勇

优先权：

CN202021080449.0

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20