一种真空自耗炉的操作柜台
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空自耗炉的操作柜台，所述真空自耗炉的操作柜台包括固定在地面上底座、设置在底座上的柜体、设置在柜体顶部的控制平台、设置在控制平台上的操作设备和设置在控制平台上的监控设备，所述控制平台包括操作平台和监控平台，所述监控平台设置在柜体顶部、所述操作平台设置在柜体侧上方，所述操作平台下方悬空，所述监控平台呈梯形，所述监控平台的斜面朝向操作平台一侧，所述监控设备设置在监控平台的顶面上，所述操作设备设置在操作平台上，所述操作平台的顶面距离地面800‑840mm。本实用新型公开的一种真空自耗炉的操作平台能够达到便于操控真空自耗炉的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种真空自耗炉的操作柜台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021126015.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-17
授权号 ：
CN213203159U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
齐雪峰桂大兴杨巍峰
申请人 ：
上海鑫蓝海自动化科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区碧波路250号1幢3层
代理机构 ：
上海愉腾专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
谢小军
优先权 ：
CN202021126015.X
主分类号 ：
C22B9/21
IPC分类号 ：
C22B9/21
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22B
金属的生产或精炼；原材料的预处理
C22B9/00
金属精炼或重熔的一般方法；金属电渣或电弧重熔的设备
C22B9/16
金属的重熔
C22B9/20
电弧重熔
C22B9/21
所用的设备
法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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