调光膜
授权
摘要
本实用新型涉及一种调光膜,所述调光膜包括两层透明导电电极,所述透明导电电极包括:透明的基板,所述基板包括调光区、走线区;位于所述基板上的工作电极,所述工作电极由纳米金属线、或纳米金属棒、或纳米金属膜构成,所述工作电极位于走线区的结构上具有露出所述工作电极的剖面的搭接槽;保护层,位于所述工作电极背离所述基板的一侧,所述保护层上具有与所述搭接槽相连通的导电通道;电连接件,位于所述搭接槽与所述导电通道内,所述电连接件为固化的导电浆料;位于所述保护层背离所述工作电极的一侧的导电电极,所述导电电极通过所述电连接件与所述工作电极电性连接;其中,所述PDLC膜位于两层透明导电电极的保护层之间。
基本信息
专利标题 :
调光膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021129743.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-17
授权号 :
CN212031896U
授权日 :
2020-11-27
发明人 :
雷贝彭颖杰徐林王新媛姜锴潘克菲徐晔
申请人 :
苏州绘格光电科技有限公司;苏州诺菲纳米科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A7幢203C室
代理机构 :
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
韩晓园
优先权 :
CN202021129743.6
主分类号 :
G02F1/1343
IPC分类号 :
G02F1/1343 G02F1/1334
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1343
电极
法律状态
2020-11-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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