显示面板用基板的制造方法
授权
摘要
一种显示面板用基板的制造方法，抑制对半导体膜和透明电极膜中的一个膜进行的蚀刻处理、退火处理给另一个膜带来不良影响的事态。其特征在于，具备：像素电极形成工序，在覆盖栅极电极(34)的栅极绝缘膜(38)上形成包括透明电极膜的像素电极(33)；半导体膜形成工序，在像素电极形成工序之后进行，在栅极绝缘膜(38)上以一部分覆盖像素电极(33)的形式形成半导体膜(42)；退火处理工序，在半导体膜形成工序之后进行，对半导体膜(42)进行退火处理；以及蚀刻工序，在退火处理工序之后进行，通过对半导体膜(42)进行蚀刻，将与栅极电极(34)重叠的沟道部(37)形成在与像素电极(33)同一层。
基本信息
专利标题 ：
显示面板用基板的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109491157A
申请号 ：
CN201811057904.2
公开（公告）日 ：
2019-03-19
申请日 ：
2018-09-11
授权号 ：
CN109491157B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
原义仁大东彻今井元前田昌纪北川英树伊藤俊克川崎达也
申请人 ：
夏普株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京市隆安律师事务所
代理人 ：
权鲜枝
优先权 ：
CN201811057904.2
主分类号 ：
G02F1/1362
IPC分类号 ：
G02F1/1362 G02F1/1368 G02F1/1343 G02F1/1333
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2019-04-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20180911
申请日 : 20180911
2019-03-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN109491157A.PDF
PDF下载
