阵列基板制造方法、阵列基板以及显示面板

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摘要

本发明公开了一种阵列基板及其制造方法，所述阵列基板制造方法包括：在薄膜晶体管基板上涂布第一保护层；在所述第一保护层上依次形成遮光层以及色阻层；在所述色阻层的上方施加预设电场参数的交变电场，以消除所述色阻层表面的颗粒物；根据消除所述颗粒物后的所述薄膜晶体管基板形成所述阵列基板。解决了阵列基板色阻层表面颗粒粗糙导致保护层破裂进而导致液晶产生气泡的技术问题，达到了提高色阻层的技术效果。

基本信息

专利标题：

阵列基板制造方法、阵列基板以及显示面板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113467143A

申请号：

CN202110715990.7

公开（公告）日：

2021-10-01

申请日：

2021-06-25

授权号：

CN113467143B

授权日：

2022-05-06

发明人：

卓恩宗朱虹玲韦超都桂卿郑浩旋

申请人：

惠科股份有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层，6栋七层

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所

代理人：

晏波

优先权：

CN202110715990.7

主分类号：

G02F1/1362

IPC分类号：

G02F1/1362 G02F1/1368