一种光谱扫描基坑检测装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光谱扫描基坑检测装置，包括装置本体、收纳机构和防护机构，所述收纳机构位于装置本体的一侧，所述收纳机构包括收纳槽，所述收纳槽的内部固定连接有海绵，所述收纳槽的一侧固定连接有固定轴，所述固定轴的外边面活动套接有卡块，所述卡块的一侧设置有第一扭簧；通过使用含有收纳槽、海绵和卡块的收纳机构，可以在使用后对扫描头进行有效的收纳，将其放入收纳槽中后可以增加装置使用的便捷性，提升工作的效率；通过使用含有第一限位条、连接块和橡胶圈的防护机构，可以使光谱扫描基坑检测装置在使用过程中，增加对扫描头的保护，增加使用便捷性的同时，延长使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种光谱扫描基坑检测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021134133.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-18
授权号 ：
CN212228713U
授权日 ：
2020-12-25
发明人 ：
邵宇丰周锦霆
申请人 ：
上海荷福人工智能科技（集团）有限公司
申请人地址 ：
上海市长宁区虹桥路2535号2楼A区119室
代理机构 ：
上海浙晟知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨小双
优先权 ：
CN202021134133.5
主分类号 ：
G01N21/01
IPC分类号 ：
G01N21/01 G01N21/25 E02D33/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2020-12-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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