一种可进行液位调节的反应系统
授权
摘要
本实用新型涉及反应釜领域，具体提供一种可进行液位调节的反应系统。所述反应系统包括反应釜，所述反应釜上方有液体原料进料口，所述液体原料进料口通过液体原料进料管道与液体原料储槽相连，所述反应釜下方为其它原料进料口，所述反应釜釜壁纵向开设多个液位调节排放阀，每个液位调节排放阀对应一条液位调节管道，所有液位调节管道通向液体原料储槽，所述其它原料进料口处有计量计。解决反应釜中混合装置成本较高，产物储罐占地面积较大的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种可进行液位调节的反应系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021156704.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-18
授权号 ：
CN212647318U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
吕杨杨杨凤岭孙德山段艺强吴方超
申请人 ：
山东国舜建设集团有限公司
申请人地址 ：
山东省济南市长清区济南经济开发区国舜路001号
代理机构 ：
济南圣达知识产权代理有限公司
代理人 ：
王志坤
优先权 ：
CN202021156704.5
主分类号 ：
G05D9/00
IPC分类号 ：
G05D9/00 B01J19/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D9/00
液位控制，例如控制存储在容器中的材料量
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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