可扩展量子比特结构
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摘要

一种可扩展量子比特结构,结构包括:基片(100),其上形成有阵列排布的矩形槽(102),矩形槽(102)两侧生长有定位型自组织锗硅纳米线(103),定位型自组织锗硅纳米线(103)的位置及尺寸可控;源漏电极设于定位型自组织锗硅纳米线(103)的两端;源漏外围大电极(300),连接源漏电极;绝缘层(400),其形成在源漏外围大电极(300)上方,绝缘层(400)上形成有分立的电荷感应量子点顶层金属栅极(401)与被探测量子点顶层金属栅极(402);顶层外围大电极(500),连接顶层金属栅极。该量子比特结构的空穴量子自旋比特拥有更长的相干时间,有利于量子比特结构的扩展,且测量方式属于非破坏性测量,灵敏度高。

基本信息
专利标题 :
可扩展量子比特结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021173439.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-22
授权号 :
CN213660408U
授权日 :
2021-07-09
发明人 :
李海欧徐刚刘赫曹刚郭国平
申请人 :
中国科学技术大学
申请人地址 :
安徽省合肥市包河区金寨路96号
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
周天宇
优先权 :
CN202021173439.1
主分类号 :
H01L29/06
IPC分类号 :
H01L29/06  H01L29/66  B82Y30/00  B82Y40/00  G01R29/24  G06N10/00  
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法律状态
2021-07-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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