本实用新型提出了一种清洗设备，包括：框架，框架内设置有至少一个第一清洗室；系统管路，设于框架；支撑架，设于第一清洗室，用于放置物料；清洗系统，设于第一清洗室内，与系统管路相连接；清洗系统包括：第一喷淋组件，位于支撑架的上方，第一喷淋组件可旋转的设于第一清洗室内。在实用新型提供的清洗设备，框架内设有清洗室，清洗系统在清洗室内对放置在支撑架上的物料进行清洗，第一喷淋组件位于支撑架的上方，具体地可以是位于在清洗室的顶部，以在物料的顶部清洗物料，进一步地，第一喷淋组件可旋转，进而可以实现对物料的全方位清洗，并且，由于采用物料固定，第一喷淋组件旋转的方式，可以避免物料在转动时出现倾斜，甚至损坏的情况。