清洗设备
授权
摘要
本实用新型公开了清洗设备，包括：清洗槽、泵、过滤器、第四连接管、微粒子检测仪和控制器，所述清洗槽包括内槽和设在所述内槽外周的外槽，所述外槽上设有出液口，所述内槽上设有喷嘴；所述泵与所述出液口通过第一连接管相连；所述过滤器的进料口通过第二连接管与所述泵相连，所述过滤器的出料口通过第三连接管与所述喷嘴相连；所述第四连接管与所述第一连接管相连，所述第四连接管上设有气动阀；所述微粒子检测仪与所述第二连接管相连；所述控制器分别与所述微粒子检测仪和所述气动阀相连，且所述控制器基于所述微粒子检测仪控制所述气动阀的开闭。由此，采用该清洗装置可以显著降低清洗槽内的微粒子数量，从而保证清洗后硅片具有较高的品质。
基本信息
专利标题 ：
清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020272748.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-06
授权号 ：
CN212468991U
授权日 ：
2021-02-05
发明人 ：
陈建铭卢健平
申请人 ：
徐州鑫晶半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市经济技术开发区鑫芯路1号
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
肖阳
优先权 ：
CN202020272748.8
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-02-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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