防光反馈的高功率激光双光束偏振合束加工光源系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种防光反馈的高功率激光双光束偏振合束加工光源系统，包括：第一激光光源，用于发射第一出射光；第一偏振片，设置于所述第一激光光源出光侧；第一波长片，设置于所述第一偏振片远离所述第一激光光源的一侧；第二激光光源，用于发射第二出射光，且与所述第一激光光源的出光方向垂直；第二偏振片，设置于所述第二激光光源出光侧；第二波长片，设置于所述第二偏振片远离所述第二激光光源的一侧；偏振合束片，设置于所述第一出射光和所述第二出射光的相交处。通过偏振合束片合束两个偏振态的激光，使激光的合束功率加倍，并分别滤除两束激光的反馈光，实现对激光芯片的保护。

基本信息

专利标题：

防光反馈的高功率激光双光束偏振合束加工光源系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021211716.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-24

授权号：

CN213069367U

授权日：

2021-04-27

发明人：

孙帅刘佳敏蔡万绍

申请人：

深圳活力激光技术有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区福海街道新和社区福园一路35号天瑞工业园A2栋301

代理机构：

深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

黎坚怡

优先权：

CN202021211716.3

主分类号：

G02B27/28

IPC分类号：

G02B27/28 G02B27/10