离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置
授权
摘要
本实用新型离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，属于大视场循环肿瘤细胞显微成像技术领域，特别是涉及到一种杂散光抑制装置；包括光学组件支撑结构，光学组件支撑结构上设置有主镜镜框、主次镜遮光罩、次镜组件、光源遮光罩和焦面遮光罩，主镜镜框中设置有主三一体镜，另外光源遮光罩与主次镜遮光罩的上部相对应；光学组件支撑结构上还设置有平移台，平移台上设置有CCD组件，CCD组件的正前方设置有焦面组件，与焦面组件相对应的位置设置有焦面遮光罩，焦面遮光罩与主次镜遮光罩的下部相对应；主次镜遮光罩、光源遮光罩和焦面遮光罩均为开口的中空结构。本实用新型可以有效抑制场内外及二次杂光，有效提升了光学系统成像质量。
基本信息
专利标题 ：
离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021233515.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-30
授权号 ：
CN212207831U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
刘小涵张元李双成任建岳李美萱李楠谷开慧张斯淇冯悦姝
申请人 ：
吉林工程技术师范学院
申请人地址 ：
吉林省长春市凯旋路3050号吉林工程技术师范学院
代理机构 ：
长春市吉利专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
李晓莉
优先权 ：
CN202021233515.3
主分类号 ：
G02B21/00
IPC分类号 ：
G02B21/00 G02B21/04 G02B17/06 G02B21/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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