一种耐弯折阻隔膜结构
授权
摘要
本实用新型提出一种耐弯折阻隔膜结构，包括柔性基膜、无机物阻隔层和有机物保护层，所述柔性基膜的一侧设置所述无机物阻隔层，所述无机物阻隔层相对所述柔性基膜的另一侧设置所述有机物保护层。本实用新型在包含缺陷的无机物阻隔层上方增加一层有机物保护层，藉由有机物保护层柔软之特性，补足裂缝位置造成的水气、氧气之泄漏，可改善阻隔效果。
基本信息
专利标题 ：
一种耐弯折阻隔膜结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021264856.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
CN213327808U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
胡文玮
申请人 ：
汕头万顺新材集团股份有限公司;广东万顺科技有限公司
申请人地址 ：
广东省汕头市濠江区汕头保税区万顺工业园
代理机构 ：
广州知顺知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
彭志坚
优先权 ：
CN202021264856.7
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/35 C23C14/08 C23C14/10 C23C14/20 C23C14/06 C23C16/06 C23C16/40 C23C16/34 C23C16/36 C23C16/32 C23C28/00 C23C28/02 C23C28/04 B05D7/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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