导墙基槽
授权
摘要
本实用新型涉及导墙基槽，所述导墙基槽包括槽壁、槽底、槽顶，所述槽底边沿设置有排水沟，且所述排水沟侧壁由部分所述槽壁构成。通过在导墙基槽底部边沿设置排水沟，使得浇筑导墙的混凝土泌水能够及时从排水沟排出，避免过多的水淹没部分导墙，以便导墙施工进度以及后期地下连续墙施工进度得到保证，保证导墙混凝土顺利地凝结。另外，由于排水沟侧壁由部分导墙基槽的槽壁构成，避免导墙混凝土的泌水影响导墙结构的质量，避免导墙保水性能下降。
基本信息
专利标题 ：
导墙基槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021272341.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
CN212688979U
授权日 ：
2021-03-12
发明人 ：
孙毅刘伟杨立新李鸿文赵吉善向黎平赵书良苏哲李则曦鲍珊徐浩贺连举向韬王金梁
申请人 ：
中交路桥华南工程有限公司;中交路桥建设有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市东区兴政路1号中环广场3座19层
代理机构 ：
北京市立方律师事务所
代理人 ：
刘延喜
优先权 ：
CN202021272341.1
主分类号 ：
E02D17/06
IPC分类号 ：
E02D17/06 E02D19/08
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/06
基础沟或狭小竖井
法律状态
2021-03-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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