一种活动式电浆处理电极
授权
摘要
本实用新型涉及真空溅镀设备领域，尤其涉及一种活动式电浆处理电极，包括：腔体盖板、真空腔体、磁铁组、传送滚轮、导电台车、滑触集电器和上电极；本实用新型的实际使用中，上电极固定在真空腔体的内腔壁顶端，导电台车为下电极，下电极便于更与与维修；当导电台车运动到预定位置，与滑触集电器接触导通，通电后的导电台车作为下电极，产品放置于导电台车上，强化了下部电极的解离能力，并在传送滚轮和磁铁组之间形成磁场，进一步利用磁力磁感线引导电子与离子回旋，增加碰撞几率，提高电浆离子密度。
基本信息
专利标题 ：
一种活动式电浆处理电极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021308502.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-07
授权号 ：
CN213013070U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
吴煜明
申请人 ：
柏霆（苏州）光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州高新区木桥街1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021308502.8
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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