连续式电浆处理机构
授权
摘要
本实用新型涉及磁控溅镀设备领域，具体涉及连续式电浆处理机构，包括：真空清洁腔、与真空清洁腔连接的真空隔断阀和真空法兰、穿过真空法兰与真空清洁腔内部空间连通的液冷管、设置在真空清洁腔内的液冷电极、台车，以及脉冲式直流电源；采用本实用新型，通过台车配合真空清洁腔内的滚轮，实现在线转运的效果，无需中转上下料，节约人力物力；真空隔断阀与真空法兰提供真空环境，配合脉冲式直流电源和液冷管接入液冷电极，实现真空电浆清洗活化；在磁控溅镀设备线设计适用的在线机构，实现产品清洁活化制程的在线化，减少产品中转的成本，提高产品的质量。
基本信息
专利标题 ：
连续式电浆处理机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020691742.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212560413U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
游秀屏游敬峰
申请人 ：
柏霆（苏州）光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州高新区木桥街1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020691742.4
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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