1-甲基环丙烯钠盐制备装置
授权
摘要
1‑甲基环丙烯钠盐制备装置,包括反应釜、过滤干燥釜、沉降室、四氢呋喃高位槽、3‑氯‑2‑甲基丙烯四氢呋喃溶液高位槽;四氢呋喃高位槽底部通过管线与3‑氯‑2‑甲基丙烯四氢呋喃溶液高位槽顶部相连,3‑氯‑2‑甲基丙烯四氢呋喃溶液高位槽底部通过管线与反应釜顶部相连,反应釜顶部还设置有管线与四氢呋喃高位槽和3‑氯‑2‑甲基丙烯四氢呋喃溶液高位槽之间的管线相连;反应釜底部通过管线与过滤干燥釜顶部相连,过滤干燥釜顶部还设置有管线与沉降室顶部相连;沉降室顶部还设置有管线与过滤干燥釜底部相连,且该管线上安装有气体加压泵;四氢呋喃高位槽顶部通过管线与过滤干燥釜底部相连且该管线还与过滤干燥釜顶部和沉降室顶部相连的管线相连。
基本信息
专利标题 :
1-甲基环丙烯钠盐制备装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021310339.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-07
授权号 :
CN213113158U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
杨一思杨溢徐国筛
申请人 :
黄冈师范学院
申请人地址 :
湖北省黄冈市开发区新港二路146号
代理机构 :
武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
姜学德
优先权 :
CN202021310339.9
主分类号 :
C07C13/04
IPC分类号 :
C07C13/04 C07C1/28
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C13/00
含有除六元芳环外的环的环烃,或带有六元芳环的环烃
C07C13/02
单环烃或其无环烃衍生物
C07C13/04
带三元环的
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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