石英支架及石英加热装置
授权
摘要
本申请涉及一种石英支架及石英加热装置。石英支架通过设置第一支架和第二支架，并在第一支架上设置至少三个第一滚环，在第二支架上设置三个第二滚环，第一滚环和第二滚环一一对应，且对应的第一滚环和第二滚环所在位置高相同。其中，第一滚环沿第一支架的延伸方向依次排布，相邻的第一滚环的位置高度不同。在上述结构中，由于第二滚环与对应的第一滚环的连线垂直于第一支架的延伸方向，且第一滚环和第二滚环可以支撑并传送待生长石墨的铜箔，可以避免铜箔与炉管接触，增加铜箔在炉管内的面积，从而增加单次生长石墨烯的面积。石英支架可以提高石墨烯生产效率，同时避免在炉管内的铜箔与石英管壁粘接造成石墨烯褶皱或撕裂，提高石墨烯的质量。
基本信息
专利标题 ：
石英支架及石英加热装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021311373.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-07
授权号 ：
CN212505055U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
李学瑞张宝勋李炯利王旭东于公奇
申请人 ：
北京石墨烯技术研究院有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区永丰基地丰秀中路1号2幢1层01
代理机构 ：
北京华进京联知识产权代理有限公司
代理人 ：
魏朋
优先权 ：
CN202021311373.8
主分类号 ：
C23C16/26
IPC分类号 ：
C23C16/26 C23C16/54 C01B32/186
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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