滤波片、成像装置及摄像头
授权
摘要
本实用新型公开了一种滤波片、成像装置及摄像头，其中，滤波片包括：第一透明基板；压电陶瓷片，设置所述第一透明基板一侧，所述压电陶瓷片设有通孔；第二透明基板，设置于所述压电陶瓷片远离第一透明基板一侧；弹性液晶薄膜，设置于所述通孔内；第三透明基板，设置于所述第一透明基板与所述弹性液晶薄膜之间；其中，所述第三透明基板至少部分设置于所述通孔内。滤波片通过改变弹性液晶薄膜的螺距以使滤波片对不同波段进行选择性反射。
基本信息
专利标题 ：
滤波片、成像装置及摄像头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021406042.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
CN212658923U
授权日 ：
2021-03-05
发明人 ：
袁冬杨婷姣梁智森刘巍劳伦斯·德·哈恩周国富
申请人 ：
华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市番禺区外环西路378号华南师范大学华南先进光电子研究院
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
黄广龙
优先权 ：
CN202021406042.2
主分类号 ：
G02F1/137
IPC分类号 ：
G02F1/137 G02F1/1339 G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/137
•••用电—光或磁—光效应来区分的，例如，场感应相变、取向效应、宾—主相互作用、动态散射
法律状态
2021-03-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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