抗激光高反膜

授权

摘要

本实用新型公开了一种抗激光高反膜，包括基层，基层上部设有压敏胶层，压敏胶层上部设有过渡介质层，过渡介质层上部设有反射层，反射层的表面设有若干个孔隙，孔隙内填充有荧光粉，反射层的表面为凹凸不平的起伏结构，反射层的上表面黏贴有透明面层。通过设置的过渡介质层，可以使高反膜具有良好的反射率，有效地增加对光线的利用效率，同时减轻高反膜因受热导致的形变和老化现象；通过设置的反射层及空隙，增加了光能传递性。

基本信息

专利标题：

抗激光高反膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021418468.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-17

授权号：

CN212675212U

授权日：

2021-03-09

发明人：

张瑞麟蔡林林李江波曹子玉孙丹芳汪平锋

申请人：

利基光电科技（九江）有限公司

申请人地址：

江西省九江市经济技术开发区汽车工业园电子配套产业园5号标准厂房

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202021418468.X

主分类号：

G02B5/08

IPC分类号：

G02B5/08