减反膜、电磁波透射结构及减反膜的制备方法

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摘要

本申请提供一种减反膜、电磁波透射结构及减反膜的制备方法。该减反膜设于第一介质和第二介质的分界面，第一介质为电磁波入射介质，第二介质为电磁波出射介质，于第一介质入射的电磁波为入射电磁波，于第二介质出射的电磁波为透射电磁波，第一介质和第二介质的介电常数不同，该减反膜包括：多个调控单元，排布于分界面，每个调控单元具有对应的调控参数，以使多个调控单元通过共振减少入射电磁波在分界面上的反射，并使透射电磁波于分界面发生相位变化，进而使透射电磁波在分界面上具有预设的相位分布。上述减反膜可以在实现减反增透的同时，对透射电磁波的波前进行调控，进而实现不同的透射效果。

基本信息

专利标题：

减反膜、电磁波透射结构及减反膜的制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113555693A

申请号：

CN202110780759.6

公开（公告）日：

2021-10-26

申请日：

2021-07-09

授权号：

CN113555693B

授权日：

2022-05-20

发明人：

赖耘褚宏晨牟文日

申请人：

南京大学;南京星隐科技发展有限公司

申请人地址：

江苏省南京市鼓楼区汉口路22号

代理机构：

苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

滕锦林

优先权：

CN202110780759.6

主分类号：

H01Q15/00

IPC分类号：

H01Q15/00 H01Q15/08 H01Q15/14 G02B1/11