一种气体离化冷却机构
授权
摘要
本实用新型涉及涂层设备技术领域，尤其是指一种气体离化冷却机构，其包括装配基体、正极载件、负极载件、气腔基件和冷却组件，冷却组件安装于负极载件的下部，正极载件和负极载件之间产生电场，气腔基件设置于正极载件与负极载件之间，以使气腔基件位于所述电场中，气腔基件设有离子发生腔以及与离子发生腔连通的多个离子发射通孔。本机构能够产生大量的离子，作为溅射镀膜过程的轰击粒子，在气体放电的过程中负极载件处于超级高温状态，对冷却组件导入流动的冷却液，以对负极载件和气腔基件进行有效、快速的降温，延长各个部件的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种气体离化冷却机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021423103.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-17
授权号 ：
CN212357370U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
王俊锋袁明王锋
申请人 ：
广东鼎泰机器人科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇赤岭村工业区一横南路12号
代理机构 ：
东莞市华南专利商标事务所有限公司
代理人 ：
袁敏怡
优先权 ：
CN202021423103.6
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
