一种用于放大桥墩下沉位移的测距装置

授权

摘要

本实用新型提供了一种用于放大桥墩下沉位移的测距装置，包括标尺、激光发射组件和反射组件，所述标尺竖直设置在桥墩的侧面上；所述激光发射组件包括激光发射器和固定件，激光发射器设置在标尺的正下方且通过固定件倾斜固定在桥墩的侧面上；所述反射组件包括水平调节机构、伸缩机构和反射镜，所述伸缩机构的数量为奇数个且当伸缩机构的数量大于等于三个时，多个所述伸缩机构间隔竖直设置在水平调节机构上，每个伸缩机构均包括两个对称设置的伸缩单件，在每个伸缩机构的顶端竖直安装一个反射镜并通过伸缩单件动作调整对应反射镜的高度，反射镜用于将激光发射器发出的激光反射到标尺上，实现对桥墩下沉位移的放大，减小测量误差，提高测量精度。

基本信息

专利标题：

一种用于放大桥墩下沉位移的测距装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021428868.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-20

授权号：

CN212458340U

授权日：

2021-02-02

发明人：

邱志勇任沙陈胜吉周洋

申请人：

湖南联智科技股份有限公司

申请人地址：

湖南省长沙市望城经济技术开发区沿河路二段168号

代理机构：

长沙七源专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

刘伊旸

优先权：

CN202021428868.9

主分类号：

G01C5/00

IPC分类号：

G01C5/00 G01B5/06 G01B11/06