一种有源-无源噪声整形逐次逼近ADC
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摘要

本实用新型公开一种有源‑无源噪声整形逐次逼近ADC,包括DAC电容阵列DAC1和DAC2、有源‑无源噪声整形模块(包括无源积分器PINT1和正反馈有源‑无源积分器APINT2)、六输入比较器COMP、逐次逼近逻辑模块SAR、时钟生成模块CKG、基准电压生成模块BGVG。本实用新型在有源‑无源噪声整形模块中使用最简单的MOS晶体管共源级结构,使低增益有源放大器和正反馈相结合,仅消耗几十微瓦便可获得良好的噪声整形特性,能在传统逐次逼近ADC基础上提升有效位数超过5位。该实用新型可用于低功耗、高精度的模数转换场景,例如生物医学信号采集,高精度仪表设计等领域,具有良好的应用前景。

基本信息
专利标题 :
一种有源-无源噪声整形逐次逼近ADC
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021448729.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-21
授权号 :
CN212435678U
授权日 :
2021-01-29
发明人 :
徐卫林翁浩然周茜韦雪明段吉海韦保林
申请人 :
桂林电子科技大学
申请人地址 :
广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号
代理机构 :
桂林市持衡专利商标事务所有限公司
代理人 :
陈跃琳
优先权 :
CN202021448729.2
主分类号 :
H03M1/38
IPC分类号 :
H03M1/38  
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法律状态
2021-01-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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