一种高性能消声结构
授权
摘要
本实用新型涉及声学技术领域，尤其涉及一种高性能的消声结构，通过于外筒体内同轴设置有由穿孔护面板拼接而成的内筒体，并于外筒体的四周内壁上均设置有共振吸声层，且于该内筒体和共振吸声层之间均设置有多孔吸声材料层，该共振吸声层由穿孔板共振吸声结构、薄板共振吸声结构和单腔共振吸声结构中的一种、二种或三种拼接而成；与现有的阻性消声结构相比，该结构具有全频带的消声性能，能够实现低频、中频、高频均较强的吸声特性，可缩短现有消声结构尺寸，提高其消声量，具有良好的操作性及适应性。同时该消声结构还具有材料可更换、不同性能的吸声结构可调整、安装方便等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种高性能消声结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021491624.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-24
授权号 ：
CN212276806U
授权日 ：
2021-01-01
发明人 ：
孙永吉任百吉
申请人 ：
上海泛德声学工程有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区封周路655号14幢201室J1334
代理机构 ：
上海诺衣知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
牛芳玲
优先权 ：
CN202021491624.5
主分类号 ：
G10K11/172
IPC分类号 ：
G10K11/172 G10K11/162
IPC结构图谱
G
G部——物理
G10
乐器；声学
G10K
发声器械；用于防止或减小噪声或其他声波的一般方法或装置；其他类目中不包括的声学器械
G10K11/00
声音的发送、传导或定向的一般方法或装置；防止或减小噪声或其他声波的一般方法或装置
G10K11/16
用于防止或减小噪音或其他声波的一般方法或装置
G10K11/172
利用共振效应
法律状态
2021-01-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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