一种永磁转子固定磁瓦结构
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摘要
本实用新型提供了一种永磁转子固定磁瓦结构，涉及一种永磁转子结构。它解决了现有技术中永磁转子磁瓦的固定问题。本永磁转子固定磁瓦结构，包括分布转子周向的在磁瓦固定槽，本实施例的转子具有上下两个圈磁瓦固定槽101，上下两个圈的磁瓦固定槽周向相互错开一定的角度，即轴向上相邻磁瓦固定槽的齿槽彼此错开，所述磁瓦固定槽底面分布有齿槽，所述齿槽为“V”字形齿槽。通过设置V”字形，增加了磁瓦固定槽与磁瓦对应的表面积。本实用新型通过在磁瓦固定槽底面设置，齿槽提高粘合剂的均匀度，保证剂附着量，增加粘合剂在磁瓦固定槽上的附着面积，提高磁瓦粘合强。
基本信息
专利标题 ：
一种永磁转子固定磁瓦结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021508158.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-27
授权号 ：
CN212784933U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
张继生江爱国刘海平严新
申请人 ：
杭州微光电子股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区经济开发区兴中路365、366号
代理机构 ：
杭州杭诚专利事务所有限公司
代理人 ：
尉伟敏
优先权 ：
CN202021508158.7
主分类号 ：
H02K1/27
IPC分类号 ：
H02K1/27
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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