二次设备预制舱基础座
授权
摘要
本申请涉及一种二次设备预制舱基础座，涉及变电站设备的领域，包括预埋于地面以下的底板，所述底板的内部设置有多根加强筋，多根所述加强筋间隔布设，所述底板的上表面设置有呈方环形状的安装座，且所述安装座的上下两端均设计成开口状，所述安装座的上端凸出于地面布置，且所述安装座的上端面设置有加固安装板，所述加固安装板的下表面设置有第一加固件，所述第一加固件预埋固定于所述安装座的内部。本申请具有基础座结构强度好，预制舱安装稳定的效果。
基本信息
专利标题 ：
二次设备预制舱基础座
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021537761.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
CN212926142U
授权日 ：
2021-04-09
发明人 ：
邓昕
申请人 ：
武汉光谷电力科技有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武汉东湖开发区关东科技工业园1栋2层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021537761.8
主分类号 ：
E02D27/44
IPC分类号 ：
E02D27/44
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D27/00
作为下部结构的基础
E02D27/32
特殊用途的基础
E02D27/44
机器、发动机或火炮用的基础
法律状态
2021-04-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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