一种基于半导体制冷组件生产用清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于半导体制冷组件生产用清洗装置，包括底板、旋转夹持结构和调节清洗结构；底板：其上表面左右两侧对称设有固定板，固定板的上表面中部均设有支撑板，支撑板的上表面均与顶板的底面固定连接，右侧的固定板右侧面设有旋转电机，旋转电机的输出轴通过轴承与右侧的固定板转动连接；旋转夹持结构：设置于两个固定板的内部，旋转夹持结构的右侧端头与旋转电机的输出轴固定连接；调节清洗结构：设置于顶板的上表面；其中：还包括控制开关组，所述底板的前侧面设有控制开关组，该基于半导体制冷组件生产用清洗装置，清洗质量好，便于对不同大小的组件进行清洁，提高清洗效率。
基本信息
专利标题 ：
一种基于半导体制冷组件生产用清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021569857.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-03
授权号 ：
CN212759858U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
温焱升康树军刘桂珍
申请人 ：
蔚县中天电子股份合作公司
申请人地址 ：
河北省张家口市蔚县经济开发区工业街21号
代理机构 ：
北京华际知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈健阳
优先权 ：
CN202021569857.2
主分类号 ：
B08B1/00
IPC分类号 ：
B08B1/00 B08B1/02 B08B3/02 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具，刷子或类似工具的清洁方法
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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