一种基于半导体制冷组件生产用检测装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于半导体制冷组件生产用检测装置，包括工作台、进料尺寸检测结构和制冷效率检测结构；工作台：其下表面四角对称设有支撑腿，工作台的上表面中心处设有检测箱，检测箱的底端和右侧面底端中部均为开口结构，工作台的上表面右侧中心处设有固定板，固定板的右侧面设有电机，工作台的上表面右侧前端设有水泵，水泵的出水口通过输水管一与检测箱上表面的进水口相连；进料尺寸检测结构：分别设置于工作台的上表面和固定板的左侧面，进料尺寸检测结构的上表面卡接有半导体制冷片，该基于半导体制冷组件生产用检测装置，检测半导体制冷片的尺寸，便于对半导体制冷片进行制冷效率检测。
基本信息
专利标题 ：
一种基于半导体制冷组件生产用检测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021569800.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-03
授权号 ：
CN212340320U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
温焱升康树军刘桂珍
申请人 ：
蔚县中天电子股份合作公司
申请人地址 ：
河北省张家口市蔚县经济开发区工业街21号
代理机构 ：
北京华际知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈健阳
优先权 ：
CN202021569800.2
主分类号 ：
G01D21/02
IPC分类号 ：
G01D21/02 B07C5/04 B07C5/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01D
非专用于特定变量的测量；不包含在其他单独小类中的测量两个或多个变量的装置；计费设备；非专用于特定变量的传输或转换装置；未列入其他类目的测量或测试
G01D21/00
未列入其他类目的测量或测试
G01D21/02
用不包括在其他单个小类中的装置来测量两个或更多个变量
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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