本实用新型提供一种用于压力辅助施加抛光垫的设备，用于在抛光半导体晶圆的抛光机中将抛光垫均匀压力辅助施加到抛光板，所述压力辅助施加设备包括支撑件和刷，该支撑件呈板的形式，该支撑件具有正面、反面、开口、外围边缘和在该支撑件的端部处的保持设备，该保持设备用于将该压力辅助施加设备固定在抛光机的内齿圈或外齿圈上；该刷包括径向地固定在杆上的刷毛，其中，该杆被以这样的方式被可旋转地安装在开口中，即该刷的仅该刷毛延伸超过该正面或反面。