基于LDI成像技术的TIR棱镜补偿结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于LDI成像技术的TIR棱镜补偿结构,包括在同一射线上的物面、TIR棱镜、玻璃模块和紫外镜头,所述物面、TIR棱镜、玻璃模块和紫外镜头在由左向右的方向上依次排布。本实用新型重新设计一种新的TIR棱镜补偿方案,来避免TIR棱镜带来的成像上的像差现象,提高LDI紫外镜头曝光效果,大幅提升了刻蚀精度,避免了避免像差过大导致的刻蚀不均匀。
基本信息
专利标题 :
基于LDI成像技术的TIR棱镜补偿结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021586638.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-31
授权号 :
CN213240800U
授权日 :
2021-05-18
发明人 :
向先兵陈铭勇
申请人 :
深圳市灿锐科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区福永街道凤塘大道50号鑫龙科技园A栋2楼202
代理机构 :
深圳市凯博企服专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
李绍飞
优先权 :
CN202021586638.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-05-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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