一种梯形截面抗推基础

授权

摘要

本实用新型公开了一种梯形截面抗推基础，抗推基础本体为块状体，抗推基础本体上设置有相互平行的两个竖直面，两个竖直面垂直于抗推基础本体的底部，抗推基础本体的底部依次设置有多个固定齿，抗推基础本体的顶部开设第一斜面和第二斜面，第一斜面和第二斜面均分别与水平面之间夹角为锐角，第一斜面与水平面之间夹角为第二斜面与水平面之间夹角的对角。目的在于解决现有技术中建筑基础底部平面导致的承受下压力、侧推力以及倾覆弯矩差的问题。技术效果为：通过本实用新型在抗推基础本体底部设置的多个固定齿，显著提高了抗推基础承受下压力、侧推力以及倾覆弯矩的能力，结构简单，承受力显著增强，施工支模方便，施工速度快，对地表适应性强。

基本信息

专利标题：

一种梯形截面抗推基础

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021593504.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-04

授权号：

CN212405230U

授权日：

2021-01-26

发明人：

马智刚崔光海汪静李京徐知兰曹丙山蔡泽帅

申请人：

清华大学建筑设计研究院有限公司

申请人地址：

北京市海淀区清华大学院内建筑馆

代理机构：

北京知呱呱知识产权代理有限公司

代理人：

彭伶俐

优先权：

CN202021593504.6

主分类号：

E02D27/42

IPC分类号：

E02D27/42 E02D5/74