激光熔敷送粉系统、激光熔敷装置
授权
摘要

本实用新型涉及金属表面处理领域,提供了一种激光熔敷送粉系统、激光熔敷装置。该系统包括多个转盘式送粉器、与转盘式送粉器一一对应的分粉器以及与分粉器一一对应的出粉组件;出粉组件包括两个出粉管,两个出粉管关于激光发射器的激光头中心对称,且出粉管的出口朝向激光头产生的光斑;分粉器具有粉末入口和两个粉末出口;转盘式送粉器的出口与对应的分粉器的粉末入口连通,分粉器的两个粉末出口分别与对应的出粉组件的两个出粉管的进口连通。该装置包括激光发射器和上述激光熔敷送粉系统。本实用新型无需提前混粉,可向激光头的光斑处均匀打入粉末,能够有效解决熔敷过程中不同粉末的配比梯度问题,保证基材表面形成均匀、稳定连续的熔敷层。

基本信息
专利标题 :
激光熔敷送粉系统、激光熔敷装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021618573.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-06
授权号 :
CN213203206U
授权日 :
2021-05-14
发明人 :
史金鑫杜菲菲王若思钟军
申请人 :
沈阳中钛装备制造有限公司
申请人地址 :
辽宁省沈阳市浑南区新隆街10-1号105室
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
韩世虹
优先权 :
CN202021618573.8
主分类号 :
C23C24/10
IPC分类号 :
C23C24/10  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆(熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00;固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2021-05-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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