本实用新型涉及金属涂层涂覆技术领域，尤其为一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，包括底座，所述底座的顶部焊接有反应箱，所述反应箱内腔背面的两侧均固定安装有加热器，所述底座的内壁焊接有隔板，所述隔板顶部的中心处轴承支撑有转管；本实用新型通过反应箱、隔板、转管、连接盒、第一真空泵、电机、主动齿、从动齿、喷气管、滑轨、托板、等离子体发生器和输送管的设置，使涂层涂覆装置具备气体分布均匀的优点，同时解决了现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差的问题。