一种用于生产放射性同位素的靶装置
授权
摘要
本实用新型实施例提供一种用于生产放射性同位素的靶装置，包括靶体，靶体具有用于与束流管道接口装置对接的对接端；靶体设置有靶腔，靶腔贯穿对接端的端面，以形成腔口，靶腔在远离腔口的方向上为逐渐内缩设置。本实用新型实施例提供的靶体的靶腔采取锥型的结构，相对于传统的圆柱形结构，在相同靶腔体积的情况下，靶体具有更大的内表面散热面积。
基本信息
专利标题 ：
一种用于生产放射性同位素的靶装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021658914.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-11
授权号 ：
CN213424610U
授权日 ：
2021-06-11
发明人 ：
刘玉平张宝琦秦愿生
申请人 ：
原子高科股份有限公司
申请人地址 ：
北京市房山区新镇三强路1号
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
沈军
优先权 ：
CN202021658914.4
主分类号 ：
G21G1/10
IPC分类号 ：
G21G1/10
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21G
化学元素的转变；放射源
G21G1/00
用于以电磁辐射、微粒辐射或粒子轰击的方法转变化学元素的装置，例如生产放射性同位素
G21G1/04
在核反应堆或粒子加速器外部的
G21G1/10
用带电粒子轰击
法律状态
2021-06-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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