一种二维电离室矩阵用支撑固定装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种二维电离室矩阵用支撑固定装置,其包括两个支架和能转动地连接在两个支架之间的容纳壳体,容纳壳体内具有用于放置二维电离室矩阵和固体水模体的容纳空间,容纳壳体通过两个阻尼转轴与两个支架分别连接。本实用新型中容纳壳体通过阻尼转轴与支架转动连接,通过转动容纳壳体即可任意调节容纳壳体内二维电离室矩阵的角度,调强验证中按照实际机架角照射时,以使加速器束流中心轴线垂直于二维电离室矩阵平面,使得加速器剂量测量特别是调强剂量的验证更接近于实际治疗,提高了加速器剂量验证的真实性。
基本信息
专利标题 :
一种二维电离室矩阵用支撑固定装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021665819.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-12
授权号 :
CN213236675U
授权日 :
2021-05-18
发明人 :
王军良王超
申请人 :
中国人民解放军总医院第五医学中心
申请人地址 :
北京市丰台区东大街8号放疗科
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
臧微微
优先权 :
CN202021665819.7
主分类号 :
F16M11/04
IPC分类号 :
F16M11/04 F16M11/10 F16M11/16 F16M11/22 A61N5/10
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F16
工程元件或部件;为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施;一般绝热
F16M
非专门用于其他类目所包含的发动机或其他机器或设备的框架、外壳或底座;机座或支架
F16M
非专门用于其他类目所包含的发动机或其他机器或设备的框架、外壳或底座;机座或支架
F16M11/00
用于器械或其上制品的作为支承的机台或支架
F16M11/02
头部
F16M11/04
器械的固定方法;器械相对于支架允许调整的方法
法律状态
2021-05-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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