正弦光栅-金属纳米颗粒溶胶双增强基底

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摘要

本实用新型涉及一种正弦光栅‑金属纳米颗粒溶胶双增强基底，其结构包括一维银正弦光栅和附着在一维银正弦光栅上的金纳米颗粒溶胶层；所述一维银正弦光栅是采用二氧化硅玻璃作为衬底材料，在其上均匀旋涂有适合亚波长光刻的光刻胶层，利用双光束激光干涉光刻技术在光刻胶层上形成均匀的正弦光栅结构，并使用热蒸镀法在正弦光栅结构的表面蒸镀一层均匀的银薄膜；所述金纳米颗粒溶胶层是在溶胶中含有粒径在80~120nm、粒子浓度为7.5×10^‑9mol/L的金纳米颗粒，所述金纳米颗粒均布在所述溶胶中。本实用新型灵敏度高，重现性好，并且还能实现痕量物质的实时表面增强拉曼散射检测。

基本信息

专利标题：

正弦光栅-金属纳米颗粒溶胶双增强基底

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021669553.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-12

授权号：

CN213041742U

授权日：

2021-04-23

发明人：

陈志斌肖程秦梦泽张冬晓

申请人：

中国人民解放军32181部队

申请人地址：

河北省石家庄市北新街169号

代理机构：

石家庄国域专利商标事务所有限公司

代理人：

胡澎

优先权：

CN202021669553.3

主分类号：

G01N21/65

IPC分类号：

G01N21/65